半導體資本支出集中投資EUV產能 EUV概念股 訂單滿到下半年
臺積電2021年資本支出上看250～280億美元，三星的半導體事業資本支出傳出上看300億美元，業界預期，包括英特爾、SK海力士、美光等大廠亦將調升資本支出。由於半導體大廠2021年資本支出將會集中投資在極紫外光（EUV）的產能建置，爲EUV供應鏈帶來強勁需求，包括家登、帆宣、崇越、華立、公準等EUV概念股營運看旺。
半導體市場在2020年面臨新冠肺炎疫情及美中貿易戰等外在環境影響，但數位轉型加速，各半導體大廠同步加快EUV製程量產，並大幅拉高2021年資本支出擴建EUV新產能。除了臺積電將2021年資本支出拉昇至250～280億美元，三星傳出年度資本支出上看300億美元，業界預期英特爾、美光、SK海力士會持續加碼資本支出。
臺積電及三星等半導體大廠均已導入EUV技術並建置全新生產線，帶動EUV曝光機強勁出貨動能，法人看好極紫外光光罩盒（EUV Pod）供應商家登、EUV機臺次系統模組代工廠帆宣、EUV光阻液供應商崇越及華立、EUV曝光機精密零件供應商公準等EUV概念股2021年接單暢旺，訂單能見度直達下半年。
微影設備大廠艾司摩爾（ASML）執行長Peter Wennink在法說會中表示，2021年營運展望樂觀，同時邏輯及DRAM先進製程持續推進，爲2021年EUV設備帶來強勁的成長動能。
2020年採用ASML的EUV曝光機共完成2600萬片晶圓曝光，其中在2020年第四季的EUV曝光晶圓數量就高達900萬片，業界預期2021年第一季就可望突破1,000萬片規模。ASML計劃2021年發佈新一代EUV曝光機NXE: 3600D，可提升生產力達18％，EUV設備在手訂單規模已達62億歐元，預期2021年EUV相關營收規模將較2020年成長30％達58億歐元。
此外，ASML的EUV曝光機年度產能已提升至50臺，次世代高解析度EUV技術研發持續進行，全新Hign-NA規格EUV曝光機預計可在2023年交貨予半導體廠風險生產，預期在2025～2026年可協助客戶進入量產階段。