荷蘭擴大管制光刻機出口 陸商務部:嚴重損害相關國家企業正當權益

▲荷蘭半導體制造商艾司摩爾(ASML)。(圖/路透)

記者魏有德/綜合報導

荷蘭政府6日宣佈,將擴大對ASML(阿斯麥,下同)晶片生產設備,包括光刻機的出口管制。對此,大陸商務部表示,荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上,進一步擴大對光刻機的管制範圍,中方對此表示不滿。

▲荷蘭擴大對ASML設備出口的限制。(圖/CFP)

大陸商務部發言人表示,近年來,美國爲維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定,嚴重損害相關國家和企業正當權益,中方對此堅決反對。

根據荷蘭政府新規規定,ASML需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可證,才能向大陸出口其舊型號的深紫外浸潤式光刻系統。不過,荷蘭政府已在2023年限制ASML向大陸出口更先進的設備。

在新規規定的範疇下,阿斯麥生產的「TWINSCAN NXT:1970i」和「1980i深紫外浸潤式」光刻機出口大陸將會受到限制,美國政府同樣對相關型號產品提出限制。

該發言人強調,荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發,尊重市場原則和契約精神,避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展,不濫用出口管制措施,切實維護中荷企業和雙方共同利益,維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。