日本宣佈開發出新技術，可大幅降低極紫外光刻設備耗電量和...

8月13日消息，日本沖繩科學技術大學院大學開發出一項技術，可大幅降低極紫外光刻設備的耗電量和製造成本。這項技術將從設備的光源到光刻的EUV路徑上配置的反光鏡數量從原來的10個減少到4個。以EUV光源爲中心，整體耗電量可減至原來的約十分之一。設備的結構也可大幅簡化，因此當前估計需要200億日元左右的設備引入成本幾乎可以減半。

該大學將與企業合作，力爭實現這種設備的日本國產化。（日經新聞）