臺積電四強連線 光速挺進２奈米

半導體制程推進2奈米時代

臺積電、輝達（NVIDIA）、艾司摩爾（ASML）、新思科技（Synopsys）半導體四強決定攜手合作，將輝達加速運算用在運算式微影技術領域。業者指出，當前的晶片製程已接近物理學所能達到的極限，運算式微影的創新將可協助半導體制程推進至2奈米，有利於臺積電穩固全球半導體產業的領先地位。

臺積電ADR 21日早盤一度上漲逾3％，股價衝上近月來新高，可望帶動今日臺股多頭氣勢。

臺積電在竹科寶山二期興建Fab 20超大型晶圓廠將會用作2奈米的生產基地，併成爲臺積電2奈米制程的主要重鎮，Fab20廠區第一期預計將會在2024年開始風險性試產，2025年開始量產，同時第二期目前正在興建中，預期將在第一期量產後逐步開始進入風險性試產及量產。

根據四家半導體大廠的合作計劃，臺積電及新思科技將輝達用於運算式微影的全新cuLitho軟體庫整合到其軟體、製程及系統中，以發揮輝達Hopper架構GPU的優勢，而艾司摩爾與輝達在GPU及cuLitho方面密切合作，將對GPU的支援與都整合到所有運算式微影軟體產品中。

這項進步將使得晶片上可以用比現在更精細的電晶體和線路，同時加快上市時間，且提高爲推動製程而全日運作的大規模資料中心的能源使用效率。輝達創辦人暨執行長黃仁勳表示，半導體產業是世界上幾乎所有其他產業的基礎，在微影技術現已達到物理學極限的情況下，輝達推出的cuLitho與合作伙伴臺積電、艾司摩爾、新思科技合作，將協助晶圓廠提高產量、減少碳足跡，且爲2奈米及更先進的製程發展奠定基礎。

黃仁勳說明，在GPU上運行的cuLitho，其效能較當前的微影技術高出40倍，將可加速執行目前每年要用掉數百億CPU小時來處理的大規模運算工作負載。cuLitho讓500個H100系統可以做到相當於4萬個CPU系統的工作量，平行運行運算式微影流程的所有部分，有助於減少電力需求量和降低可能影響環境的程度。

臺積電總裁魏哲家並表示，cuLitho團隊將曠日費時的作業交GPU來執行，在加快運算式微影技術方面獲重大進展。此發展爲臺積電在晶片製造中更大範圍地部署反向微影技術和深度學習等微影技術解決方案，開創新的可能性，爲半導體微縮的持續提供重要貢獻。