荷蘭宣佈限制DUV光刻機對中國出口新規則9月生效

荷蘭政府30日宣佈，限制DUV光刻機等先進半導體制造設備出口的新規定於9月1日生效。（圖/ASML)

荷蘭政府週五（30日）宣佈，限制部分先進半導體制造設備出口的新規定於9月1日生效。該規定被認爲旨在阻止艾司摩爾（ASML）的先進光刻機出口到中國。美國據報亦正研究新的出口管制，可能在7月公佈。北京對事件表示密切關注，批評美方脅迫其他國家對華搞科技封鎖，干預企業之間的正常經貿往來。

綜合外媒報導，荷蘭貿易部制定的新措施要求生產先進晶片製造設備的公司在出口前申請許可證，貿易部長史賴內馬赫（Liesje Schreinemacher）表示，荷方的舉措是爲了維護國家安全，但是令人高興的是，有關公司現在知道自己的立場，他們能夠及時適應新措施。

ASML隨後發表聲明指，根據新措施，深紫外光（DUV）光刻機的出口將需向荷蘭政府申請許可，由後者決定是否授予或拒絕批准，受限產品包括Twinscan NXT:2000i及後繼型號。ASML將繼續出口法規，包括荷蘭、歐盟和美國的法例。聲明又提到，極紫外光（EUV）光刻機先前已限制出口，其他產品尚未受限。

報導說，美國也制定新的出口管制措施，可能7月下旬公佈，預計向6家中國晶片企業設限，美企向這些公司提供設備時亦需先獲得許可，申請有可能被拒絕，當中包括中國最大晶片製造商中芯國際（SMIC）。美國規定將適用於全球，ASML也包含在內，因該公司系統使用美國零件。

ASML在全球EUV和DUV光刻機生產上具有壟斷地位，一旦受限，中國40nm以下製程的各種晶片，包括DRAM、NAND Flash生產都將受到衝擊。

中共外交部發言人毛寧表示，中方將密切關注有關動向，堅決維護自身的合法權益。中方一貫反對美方泛化國家安全概念，濫用出口管制，以各種藉口拉攏、脅迫其他國家對華搞科技封鎖，以行政手段干預企業之間的正常經貿往來，嚴重破壞市場規則和國際經貿秩序，衝擊全球產供鏈的穩定，不符合任何一方的利益。