臺積電突爆1罕見舉動！外媒急拋警告 恐淪死敵悲劇下場

臺積電並未採用ASML最新機臺引發市場高度關注。（圖／路透社）

半導體大廠艾司摩爾ASML推出最新高數值孔徑極紫外光EUV曝光機，馬上被英特爾採用，但臺積電仍在觀望。外媒認爲此事將是英特爾重拾霸主地位的狹窄破口，如同當年英特爾並未馬上搶進第一代EUV機臺，而臺積電大舉投資EUV設備。

美國科技媒體wccftech報導，英特爾打算在18A（1.8奈米）製程中試驗ASML的高數值孔徑極紫外光EUV技術，甚至考慮直接應用在14A（1.4奈米）的製造流程中。

相較之下，臺積電並未跟進，原因可能是考量每臺高數值孔徑EUV微影機的高昂成本，每臺售價高達3.85億美元（約新臺幣125.58億）相當可觀。

外媒示警，臺積電可能會重蹈英特爾的覆轍，先前英特爾就因爲保守的財務政策，推遲大舉投資EUV機臺的時間點，臺積電則在那區間大舉投資，一下子就拉開技術差距，收穫甜美果實。

即使如此，外媒也提到，英特爾執行長季辛格（Pat Gelsinger）將逆轉勝的關鍵寄託在最新的EUV機臺，其實部分成本是由美國人共同承擔，英特爾拿到鉅額晶片法案補助，讓英特爾將成本社會化，當然後續成果也受到美國社會高度檢視。