日本EUV光刻機開始安裝，準備造2nm芯片

據日經亞洲12月19日報道，Rapidus成爲日本首家獲得極紫外（EUV）光刻設備的半導體公司，已經開始在位於北海道正在建設的“IIM-1”芯片製造廠內安裝極紫外光刻系統。

12月14日，荷蘭供應商ASML生產的極紫外光刻系統（EUV）的第一批部件抵達機場。由於系統規模龐大，高約3.4米，每個完整的單元重達71噸，大約和一頭鯨魚一樣大。它將分四個階段進行安裝，設備安裝預計在本月底完成。

EUV在卸貨日經亞洲

極紫外光刻設備結合了特殊的光源、透鏡和其他技術，以形成超精細的電路圖案。因爲系統的體積較大，因此對振動和其他干擾的敏感度較低。

11月，Rapidus CEO 小池淳義帶ASML監事會成員Martin van den Brink參觀了潔淨室和其他廠房。Martin van den Brink曾擔任首席技術官，在開發極紫外光（EUV）技術方面發揮了關鍵作用，他批准了設備的安裝。

ASML是全球唯一一家極紫外光刻系統供應商。每套系統的價格在1.8億美元（約合人民幣13.1億元）以上，具體價格取決於型號。這些系統需要高水平的操作技能，只有少數芯片製造商包括臺積電、三星電子和英特爾採用了EUV系統。去年全球僅交付了42套系統。

Rapidus正在與美國科技巨頭國際商業機器公司IBM合作開發多閾值電壓GAA(全環繞柵極）晶體管技術，這些技術有望用於2nm製程的量產。Rapidus計劃在2025年春季使用最先進的2納米工藝開發原型芯片，於2027年開始大規模生產芯片。全球最大芯片代工廠臺積電的目標是於2025年開始大規模生產2納米芯片。

更精細的電路能爲邏輯芯片提供更高的能效和計算能力。先進的芯片在未來幾十年內決定經濟主導地位的人工智能和其他技術中至關重要。

日本的半導體產業在20世紀80年代曾佔有全球市場份額超50%，但到了21世紀，因爲技術發展的滯後，日本的芯片製造商無法生產出比40納米更先進的芯片，退出了生產更小工藝邏輯芯片的競爭行列。

Rapidus由政府支持，旨在恢復日本生產先進芯片的能力，減少對進口的依賴。日本政府的目標是到2030年，日本芯片製造商的銷售額達到1.5萬億日元（約合人民幣705億元），是2020年的三倍。

目前，日本政府已決定向Rapidus提供9200億日元（約合人民幣432億元）的補助，並計劃在2025財年向Rapidus投資2000億日元（約合人民幣94億元）。不過，Rapidus仍然面臨4萬億日元（約合人民幣1881億元）的資金缺口。

“我們將從北海道和日本向全世界輸送尖端半導體，”12月18日在新千歲機場舉行的儀式上，小池這樣說道。

日本建築商鹿島建設正在建造將容納Rapidus的極紫外光刻系統（EUV）的建築。潔淨室由高砂熱工工程建造。

Rapidus下一步的計劃是積累專業知識。該公司已派遣約150名工程師前往IBM學習如何管理生產線。

日本政府的數據顯示，全球高端半導體市場預計到2030年將達5.3萬億日元（約合人民幣2900億元），較2020年增長近8倍。

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