消息稱臺積電首臺 ASML High NA EUV 光刻系統本月進機

IT之家 9 月 9 日消息，據臺媒《經濟日報》今天下午援引業界消息稱，臺積電首臺 ASML High NA EUV 光刻系統設備本月將進機，這將使其“持續領先”三星晶圓代工的交機進度。

這臺設備的價值超過 4 億歐元（IT之家備註：當前約 31.48 億元人民幣），其高度超過一間會議室、長度遠超前一代設備，規格特殊且精密，因此當地與機場或港口相連的高速公路預計需要進行交通管制，或安排在特定的深夜時段運送入廠，以避免交通不順。

對於業界傳聞，ASML 今天迴應稱“不評論單一客戶”，臺積電傍晚也提到不迴應市場傳聞。不過業界盛傳，臺積電首臺 High NA EUV 本月將進機，預計移入臺積電全球研發中心用於研發，進而應對後續先進製程開發需求。

據IT之家此前報道，今年 8 月曾有韓媒消息稱，三星將於 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期間，安裝首臺來自 ASML 的 High-NA EUV 光刻機，並預估 2025 年年中投入使用。