英特爾完成首臺商用高數值孔徑EUV光刻機組裝

4月18日，美國芯片公司英特爾宣佈，已接收並完成組裝業界首臺商用高數值孔徑（High NA）極紫外（EUV）光刻機。據介紹，這套重達165噸的設備是阿斯麥（ASML）與英特爾合作數十年後開發的新一代光刻設備，現位於俄勒岡州的D1X製造工廠，正在進行最後的校準。